一、光刻胶概述
光刻胶按照化学反应原理不同，可以分为正性光刻胶和负性光刻胶。正性光刻胶为交联结构，曝光后，曝光部分溶于显影液，未曝光部分显影后留存；负性光刻胶，曝光后发生交联反应，曝光部分形成交联结构，不可溶解并硬化，留存在基底表面生成图形，未曝光部分溶解。
正性光刻胶的分辨率和对比度较高，适用于更小图形尺寸，目前高端市场光刻胶以正性为主，如KrF、ArF、EUV和TFT正性光刻胶；负性光刻胶具有良好的粘附能力和抗刻蚀能力，因其具有更优的感光性，要求添加的感光剂更少，成本更低，适用于低成本、高容量的芯片。
光刻胶按化学反应原理分类
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二、光刻胶结构
光刻胶按照应用领域不同，可以分为半导体用光刻胶、平板显示用光刻胶、印刷电路板用光刻胶和其他用途光刻胶，技术壁垒相对程度依次降低。全球各类型光刻胶市场份额较为平均，均在25%左右；中国本土企业生产以技术壁垒相对较低的PCB光刻胶为主，高端光刻胶被国外巨头垄断，高端光刻胶是集成电路28nm、14nm乃至10nm以下制程的关键，而我国几乎处于空白状态，国产替代空间广阔。
全球光刻胶市场结构
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中国光刻胶市场结构
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相关报告：华经产业研究院发布的《2021-2026年中国光刻胶行业市场供需格局及投资规划建议报告》
三、光刻胶市场规模
2020年全球光刻胶市场规模达87亿美元，市场高度集中。2020年全球前五大厂商占据87%份额，其中JSR市场占比最高，达到28%；其次为东京应化，市场占比为21%；第三为罗门哈斯，市场占比为15%；第四为信越化学，市场占比为13%；第五富士电子材料，市场占比为10%。
2020年全球光刻胶市场格局
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中国加快研发进程，布局自主可控全产业链，2020年光刻胶市场规模达到176亿元。PCB光刻胶中国本土企业占比已达61%，半导体光刻胶和平板显示光刻胶因核心技术仍然掌握在国外企业中，本土厂商不足50%。
2015-2020年中国光刻胶行业市场规模
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2020年中国光刻胶生产企业类型占比情况
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四、光刻胶国产化进展
光刻胶国产化率仅为10%，半导体用光刻胶被日本企业垄断，我国仅实现g线、i线、KrF和ArF国产化，而高端市场EUV光刻胶尚处于早期研发阶段。平板显示用光刻胶，主要产地为日本、韩国和中国台湾，其中彩色光刻胶、黑色光刻胶国产化率仅为5%，雅克科技收购LG化学该板块业务后成为国内最大供应商；TFT光刻胶，中国大陆大部分产能仍为进口。PCB光刻胶，湿膜及阻焊油墨已经基本是实现自给，国产化率达50%，而干膜光刻胶仍需大量进口，主要供应地区在日本和中国台湾。
光刻胶国产化情况
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华经产业研究院对中国光刻胶行业的发展现状、产业链发展格局及市场供需形势进行了具体分析，并从行业的政策环境、经济环境、社会环境及技术环境等方面分析行业面临的机遇及挑战。还重点分析了重点企业的经营现状及发展格局，并对未来几年行业的发展趋向进行了专业的预判。为企业、科研、投资机构等单位了解行业最新发展动态及竞争格局，把握行业未来发展方向提供了专业的指导和建议。更多详细内容，请关注华经产业研究院研究出版的《2021-2026年中国光刻胶行业发展监测及投资战略规划研究报告》。
