半导体清洗设备
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2024年全球及中国半导体清洗设备行业发展趋势，随着国产设备质量和性能得到验证，国内晶圆厂将更倾向采用国产设备「图」
中国半导体清洗设备行业市场规模的上涨主要得益于几个关键因素：首先，国家政策的大力支持和大基金的投资为本土清洗设备企业提供了资金和资源，加速了技术发展和产业升级；其次，随着全球半导体产业链向中国转移，国内晶圆制造产能的快速扩张直接带动了对半导体清洗设备的需求增长；再者，国产半导体清洗设备技术不断成熟，国产替代进口的趋势日益明显。
华经观点
2024-07-17
2020年全球半导体清洗设备发展现状、竞争格局及中国企业发展进展分析，行业集中度较高，国产化进程达到20%「图」
据统计，2018年全球半导体清洗设备市场规模为34.26亿美元，2019年和2020年受全球半导体行业景气度下行的影响，有所下降，分别为30.52亿美元和25.44亿美元，预计2021年随着全球半导体行业复苏。
华经观点
2022-02-04
2020年全球半导体清洗设备市场规模分析，竞争格局较为集中「图」
根据数据显示，2019年全球半导体清洗设备市场规模达32.8亿美元，同比增长5.81%，估计2020年约为36.1亿美元。
华经观点
2021-08-24
2020年我国半导体清洗设备行业现状，国产化道路依旧道阻且长「图」
根据清洗介质不同，半导体清洗技术主要分为湿法清洗和干法清洗两种工艺路线，湿法即采用特定化学药液和去离子水，对晶圆表面进行无损伤清洗，而干法则主要包括等离子清洗、超临界气相清洗、束流清洗等。
华经观点
2020-12-10
2018年中国半导体清洗设备投资总额及发展前景展望，湿法清洗机国产化率将不断提高「图」
2018年全球前道单片式清洗设备销售额达22.69亿美元，同比2017年增长了24.5%，随着中国半导体产业的迅速发展，国内清洗设备的需求迅速增长，2014-2018年中国半导体清洗设备投资总额从23.6亿元增长至70.3亿元。随着中国半导体产业的迅速发展，及本土厂商技术研发的进步，未来我国湿法清洗机国产化率将不断提高。
华经观点
2019-10-15
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