ASML光刻机

2021年全球及中国光刻机现状及国产化进程，上海微电子有望突破28nm分辨率「图」

数据显示，2021年阿斯麦营收来源中中国超百亿元，与国内晶圆产能扩张符合。国家政策的扶持下，我国光刻机技术也开始了飞速的发展，上海微电子目前已可量产90nm分辨率的ArF光刻机，28nm分辨率的光刻机也有望取得突破。