一、三氟化氮行业概况
三氟化氮（NF3）作为含氟特种气体的一类，常温下具有化学惰性，高温下则比氧气更活泼、比氟更稳定，且易于处理。
一般来说，三氟化氮主要用作等离子蚀刻气体和反应腔清洗剂，适用于半导体芯片、平板显示器、光纤、光伏电池等制造领域。和其他含氟电子气体相比，三氟化氮具有反应快、效率高的优点，尤其在对氮化硅等含硅材质的蚀刻中，具有较高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，能够满足加工过程需求。
此外，三氟化氮可用作制备WF6的氟化剂，同时也可在火箭发射中作为氧化剂和推进剂使用。据统计，三氟化氮作为刻蚀剂和清洗剂的占比应用超过70%，而氟化剂、氧化剂、助燃剂的应用占比不足30%。
三氟化氮在不同领域中应用占比（单位：%）
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二、全球三氟化氮行业市场现状
目前三氟化氮已成为大规模集成电路、平板显示、薄膜太阳能生产制造过程中必不可少的材料。2018年全球三氟化氮市场用量达到2.83万吨，预计到2021年全球三氟化氮市场需求量在4万吨左右。
2018-2021年全球三氟化氮需求量及增长
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目前全球三氟化氮产能约3.3万吨，供需基本匹配。主要生产厂家集中在韩国、美国。国内最大的生产企业为中国船舶重工集团公司第七一八研究所，2018年产能6500吨。
2018年全球三氟化氮市场分布（单位：%）
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相关报告：华经产业研究院发布的《2019-2025年中国三氟化氮行业市场深度分析及发展前景预测报告》
三、中国三氟化氮行业市场现状
据统计，2018年国内大陆三氟化氮市场用量为7405吨，随着半导体、显示面板行业生产重心、消费重心向中国国内转移，而且生产三氟化氮主要原料均由国内供给，两头在内的供应链格局决定了三氟化氮生产应用向国内转移是大势所趋，预计2021年国内三氟化氮需求将达到近1.6万吨，占全球约40%，2018-2021年CAGR约28.7%。
2015-2021年中国三氟化氮需求量及增长
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三氟化氮作为未来几年内集成电路、薄膜太阳能行业、液晶显示屏及相关行业中使用的主流清洗、蚀刻气体、使用量持续上升，预计在2018年国内需求量8000吨/年。IC产业在国内积极发展，如INTEL大连、中星微、宏力半导体、华宏NEC、海力士等。用量最大、最稳定并且在国内增长最迅速的当属液晶面板生产，国内TFT液晶面板生产厂家越来越多，如京东方（BOE）、龙腾光电（IVO）、南京夏普、深超光电、天马光电、信利半导体等，以及LG（广州）、华星（深圳）、群创光电（深圳）、友达光电（昆山）等。
三氟化氮液晶面板市场需求
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在太阳能行业的应用中，主要企业有正泰太阳能（杭州）、天威太阳能（保定）、新奥太阳能（廊坊）、强生光电（南通）、安阳性能（安阳）、阿格斯太阳能（郑州）、保绿太阳能（郑州）。
三氟化氮在太阳能行业市场需求
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四、中国三氟化氮竞争格局分析
目前，国内的三氟化氮产能主要集中在718所和黎明院。其中，黎明院是以化学推进剂及原材料研制为主业发展起来的综合性高新技术企业，在化学推进剂及原材料、聚氨酯新材料、含氟气体材料、过氧化氢及配套原材料四个专业领域具备显著的科研优势。在含氟气体材料方面，黎明院与与韩国大成产业气体株式会社（DIG）合作开展的三氟化氮项目，现有年产能达2000吨，凭借技术优势及成熟的销售渠道，已成为仅次于718所（年产能6000吨）成为国内第二大三氟化氮供应商。
三氟化氮竞争格局分析（单位：%）
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五、三氟化氮国内外技术差别
1、单台电槽电流数及产量
韩国、日本单台电流数约13000A，每台产量：30吨/年
国内各厂家电槽运行电流数普遍在6000-8000A，个别厂家甚至到2500A左右，单台电槽产量在5-10吨/年。
2、产品纯度
国内普遍在4N-5N之间，而日韩产品在3.5N以上较为普遍
3、稳定运行周期
圈电槽爆炸故障、电解质运行过程存在电解泥等因素，国内电解槽运行周期在一般在3-6个月，而日韩采取体外配料等形式，电解质循环等形式，电槽运行周期较长。
4、电解液状态
国内装置电解液在电槽中一般是静态，主要靠向槽内补加HF和液氨实现连续电解，而日韩在电解槽外配备电解液配置装置，电解液电解过程中动态流动。
近年来随着三氟化氮市场看好，各企业在三氟化氮研发投入加大，国内与国外装置技术差距在逐渐缩小，个别指标方面甚至有超越趋势。如在电耗，HF消耗等方面。
