2017年中国光刻胶行业发展概况分析

　　根据光刻胶的化学反应机理和显影原理，可分为正性胶和负性胶两类。其中正性光刻胶，曝光区域的光刻胶在显影液中软化而溶解，而未曝光区域仍然保留在衬底上，将与掩膜版上相同的图形复制到衬底上。负性光刻胶则恰恰相反，曝光区域的光刻胶因交联固化而不溶于显影液，将与掩膜版上相反的图形复制到衬底上。

　　经过几十年的发展和进步，光刻胶的应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类，不用化学品是生产光刻胶必需的化学原料，主要包括光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、活性稀释剂和其他助剂。光引发剂是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用。树脂是构成光刻胶的基本骨架，主要决定曝光后光刻胶的硬度、柔韧性、附着力、曝光前和曝光后对特定溶剂的溶解度产生变化、光学性能、耐老化性、耐蚀刻、热稳定性等基本性能。

　　由于光刻胶要用于加工制作非常精细的图形线路，光刻胶专用化学品的化学结构特殊、品质要求高、微粒子及金属离子含量极低、生产工艺复杂、品质要求苛刻，生产、检测、评价设备投资大，需要长期的技术积累，这些特点使得光刻胶用品的技术壁垒极高。此外，为更快更好地开发新产品，光刻胶厂家常与原料供应商共同进行技术研发，出于技术保密的考虑，加之光刻胶专用化学品行业下游客户转换成本大，使得光刻胶行业上下游相互依赖、合作非常紧密，进一步增加了市场进入壁垒。