2024年中国半导体掩膜版行业趋势,EUV技术将在先进制程中得到广泛应用,对高精度EUV掩膜版的需求将大幅增长「图」

一、行业概述

半导体掩膜版行业是指设计、制造和供应掩膜版(Photomask)用于半导体制造过程的产业。掩膜版是半导体光刻工艺中的关键部件,它是一种高精度的石英或玻璃板,上面刻有用于制造集成电路(IC)的微型图案。通过光刻工艺,掩膜版上的图案被转移到硅晶圆上,从而形成半导体器件的微观结构。

半导体掩膜版的分类及概述

二、行业政策

中国半导体掩膜版行业的发展得益于国家对半导体产业的高度重视与支持。近年来,中国政府通过《深圳市培育发展半导体与集成电路产业集群行动计划(2022-2025年)》等政策明确提出:将半导体产业作为国家战略性新兴产业,重点推动技术自主可控和产业链完善。针对掩膜版这一关键环节,政府加大了研发投入、推动产学研合作,并通过税收优惠、资金支持等措施,促进本土掩膜版技术的突破和产能的提升,旨在降低对进口依赖,增强中国在全球半导体产业链中的竞争力。

中国半导体掩膜版行业相关政策

相关报告:华经产业研究院发布的《2024-2030年中国半导体掩膜版行业市场深度研究及投资规划建议报告

三、行业产业链

1、产业链结构

中国半导体掩膜版行业的产业链结构主要包括上游的原材料供应、中游的掩膜版制造以及下游的应用市场。上游涉及高纯度石英、光刻胶等关键原材料的生产;中游包括掩膜版的设计与制造,涵盖多种类型如铬膜版、相移掩膜版、灰阶掩膜版等,服务于不同的半导体制造工艺;下游则是掩膜版的应用领域,主要包含IC制造、IC封装测试、半导体器件、LED芯片、平板显示等,这些应用领域对掩膜版的精度和质量有着严格的要求。

半导体掩膜版行业产业链结构

2、产业链下游

掩膜版在半导体、显示面板、触摸屏、电路板等领域生产均有使用。从下游应用来看,掩膜版IC和平板显示领域使用量最多,其中半导体占据60%的份额,LCD占比23%份额,OLED占比5%,PCB占比2%。

半导体掩膜版行业产业链下游应用结构

四、行业发展现状

1、全球

全球半导体掩膜版行业市场规模近年来呈现稳定增长趋势,主要受到半导体工艺不断微缩和先进制程需求增加的推动。随着5G、人工智能、物联网等新兴技术的快速发展,半导体行业对高精度、高复杂度掩膜版的需求持续攀升,推动市场规模不断扩大。此外,地区性市场如亚洲,特别是中国和韩国的崛起,也加速了市场扩展。

2018-2024年全球半导体掩膜版行业市场规模

2、中国

中国半导体掩膜版行业市场规模近年来迅速扩张,主要得益于国内半导体产业的快速发展和国家政策的强力支持。随着中国在集成电路制造领域的不断推进,本土对高端掩膜版的需求大幅增加,推动了市场规模的快速增长。同时,国内厂商通过技术升级和产能扩张,不断缩小与国际领先企业的差距,进一步促进市场规模的扩大。预计未来几年,随着5G、人工智能和新能源汽车等下游应用的快速增长,中国半导体掩膜版行业将继续保持强劲的增长势头。

2017-2024年中国半导体掩膜版行业市场规模

作为半导体材料的重要组成部分,掩模版占半导体材料市场规模的比例约为12%,仅次于硅片和电子特气。

半导体掩膜版在半导体材料中的占比

五、市场竞争格局

1、竞争格局

在全球半导体掩模版市场,晶圆厂自行配套的掩模版工厂规模占比 65%,独立第三方掩模厂商规模占比 35%,其中独立第三方掩模场主要被美国 Photronics、日本 Toppan 和日本 DNP 三家公司所控制,三者共占八成以上的市场规模,市场集中度较高。

全球半导体掩膜版行业市场竞争格局

2、重点企业

龙图光罩是中国领先的半导体掩膜版制造商之一,专注于为集成电路(IC)、显示面板、MEMS(微机电系统)等领域提供高精度的掩膜版产品。公司拥有先进的生产设备和技术能力,能够生产从5微米到先进制程所需的EUV掩膜版,涵盖从低端到高端的多种掩膜版类型。龙图光罩积极投入研发,以提升掩膜版的精度和良率,满足国内外客户对复杂图形、高分辨率掩膜版的需求。2023年公司半导体掩膜版业务收入为1.98亿元。

2021-2023年龙图光罩半导体掩膜版收入

六、发展趋势

1、EUV光刻技术的普及

随着半导体工艺节点的不断微缩,极紫外光刻(EUV)技术将在先进制程中得到广泛应用,对高精度EUV掩膜版的需求将大幅增长。这一趋势将推动中国掩膜版企业加快EUV掩膜版技术的研发和量产能力建设。

2、相位移掩膜版(PSM)的发展

为了进一步提高光刻分辨率,相位移掩膜版将成为主流选择之一。PSM技术通过改变光的相位,提升图形边缘的清晰度,适用于更小的节点制造。中国企业将加大对PSM的研发力度,以提升竞争力。

3、多光子光刻技术的探索

多光子光刻技术作为下一代光刻技术之一,具备超高分辨率的潜力。虽然目前还处于实验阶段,但在未来十年内,随着技术的成熟,多光子光刻可能逐步进入应用领域,带来掩膜版制造的新变革。

4、材料技术的突破

为了应对更高分辨率和复杂图形的需求,掩膜版材料的创新将成为关键趋势。新型抗蚀剂材料、减光膜技术和高透过率材料等将推动掩膜版性能的提升,确保其在先进制程中的应用效果。

5、自动化和智能制造

随着掩膜版制造工艺的复杂化,自动化生产和智能制造技术将在行业中得到更广泛的应用。通过引入人工智能(AI)和机器学习(ML)技术,掩膜版的设计、检测和生产过程将更加高效和精确。

华经产业研究院通过对中国半导体掩膜版行业海量数据的搜集、整理、加工,全面剖析行业总体市场容量、竞争格局、市场供需现状及行业典型企业的产销运营分析,并根据行业发展轨迹及影响因素,对行业未来的发展趋势进行预测。帮助企业了解行业当前发展动向,把握市场机会,做出正确投资决策。更多详细内容,请关注华经产业研究院出版的《2024-2030年中国半导体掩膜版行业市场深度研究及投资规划建议报告》。

本文采编:CY1265

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