近来美国方面再对荷兰阿斯麦控股公司（ASML）进行了施压，施压条件和和中国密切相关。早之前，中国就曾向ASML求购一项关键装备，但却因为美国施压，阿斯麦至今一台都没出售。这致使全球范围内本就紧张的芯片供应链变得愈加紧张。所以中国向荷兰ASML公司求购的关键装备究竟是什么呢？它的研制技术又难在哪里呢？
据了解，中国向荷兰阿斯麦求购其实就是高端光刻机，它是制造芯片的一种“独一无二”的装备，号称世界上最精密的仪器，又被称作“现代光学工业之花”，单台售价达到了1.2亿美金。此前世界上能够实现高端光刻机量产的国家只有荷兰和日本，相关厂商就是荷兰的ASML以及日本的尼康和佳能。不过从2008年开始，日本佳能已经逐渐放弃了光刻机业务，只有尼康还在奋力追赶。
有公开数据显示，早在2007年，荷兰阿斯麦就已经占据了大约60%的中高端光刻机市场份额，在最高端市场，阿斯麦更是一举抢占了80%的市场份额。几年前，阿斯麦成功研发出了最新的极端紫外线光刻机EUV，能够实现7纳米以下先进半导体制程，这更进一步奠定了阿斯麦公司业界老大的地位。
目前美国英特尔以及韩国三星电子都需要依靠阿斯麦的高端光刻机来制造智能手机以及电脑等设备中的芯片。日本尼康在国际上的高端光刻机市场份额被不断挤压，研发更显得力不从心。中国向阿斯麦求购也是希望借此减少对外部供应商的依赖。此番虽然遭到美国的封锁，但实际上中国早有准备。
对中国来说，光刻机技术是迟早都需要攻克的，不可能因为已经存在业界老大，还可以直接采购高端光刻机而放弃对相关技术的探索，从美国的出手就可以看出，要想不被卡脖子，自身实力才是硬道理。早之前中国已经能够造出实现22纳米半导体制程的关键设备——深紫外线光刻机DUV，并能通过重复曝光生产7纳米级芯片，尽管这和荷兰的极端紫外线光刻机EUV仍有较大差距，但是已经很值得庆祝。
有专家表示，现如今有不止一家芯片企业正致力于突破EUV技术，中国现如今没能做出来EUV光刻机的原因其实是实验的次数、投入的时间、人力以及财力还没达到可以产能质变的程度，有工程师证明：高端光刻机的一个零件都要打磨10年。光刻机同时又是西方对中国封锁技术的一个缩影，事实证明，封锁并不能阻碍中国科技的前进步伐，相反会更加坚定中国自主创新的决心和意志。
